多弧離子鍍膜機的核心技術是它的電弧蒸發(fā)源，多弧離子鍍膜機的蒸發(fā)源是一種比較特殊的冷陰極電弧放電的自蒸發(fā)、自電離式的一種固體型蒸發(fā)源。
　　所謂多弧離子鍍膜機就是用多個電弧蒸發(fā)源為核心的一種離子鍍膜設備，通常又叫多弧鍍膜、弧鍍、電弧鍍膜等。相較于其他鍍膜工藝，它具備的特點有：
　　機械整體簡單、設備生產效率高、工作周期短、適合大批量的工業(yè)化生產。
　　較大的鍍膜空間。 電弧蒸發(fā)源為固態(tài)，可靈活放置，所以工件在裝卡更換時更加簡單，無需附加加熱器使用。
　　工藝范圍廣。適合在較高真空或較低環(huán)境溫度（200?C）下做反應鍍、離子鍍。
　　具備優(yōu)異的膜性能。工件的轟擊加熱、清潔和沉積交由離化金屬等離子體轟擊完成，實現(xiàn)“一弧三用”，且膜層結構致密性高，膜層與鍍件牢固結合。
　　目前，多弧離子鍍膜機最突出的經典應用就是于刀具上鍍氮化鈦超硬鍍層。可以鍍制TiC、TiN等超硬膜，銅、銀、鋁、鉻、釔等高低溫耐腐蝕膜，或是不銹鋼、黃銅、鎳鉻等裝飾、保護膜層以及WC類金剛石等特硬膜。多弧離子鍍膜機的電弧蒸發(fā)源適用范圍較廣，既可反離子鍍，又可蒸鍍金屬結構材料、合金材料。且由于離子鍍具備沉積速度快、鍍料適用廣、鍍層附著粘合性良好、膜致密性高等特點，現(xiàn)在其應用日益廣泛，在未來是可能逐漸取代濕式電鍍的存在。目前，在電子、化工、輕工、機械、國防、采礦、冶金等諸多行業(yè)領域均有涉及。
　　標簽：多弧電源