真空鍍膜有三種形式，即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍:蒸發(fā)鍍膜，通過(guò)加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面；濺射鍍膜用高能粒子轟擊固體表面時(shí)能使固體表面的粒子獲得能量并逸出表面，沉積在基片上；離子鍍蒸發(fā)物質(zhì)的分子被電子碰撞電離后以離子沉積在固體表面。這三種形式的真空鍍膜技術(shù)都需要一種快速冷卻裝置來(lái)輔助真空鍍膜工程。
　　真空設(shè)備由于在鍍膜過(guò)程中工件處于密閉的真空環(huán)境中，但產(chǎn)品工藝及性能卻喪失了很多，現(xiàn)有的真空鍍膜設(shè)備，也有冷卻裝置，但其冷卻效果不是很理想。不能滿(mǎn)足人們的需要，為彌補(bǔ)現(xiàn)有技術(shù)不足，提供真空鍍膜設(shè)備手套箱蒸鍍一體機(jī)，本系統(tǒng)由真空鍍膜系統(tǒng)和手套箱系統(tǒng)集成而成，可在高真空蒸鍍腔室中完成薄膜蒸鍍，并在手套箱高純惰性氣體氛圍下進(jìn)行樣品的存放、制備以及蒸鍍后樣品的檢測(cè)。能保證鍍膜產(chǎn)品工藝及性能質(zhì)量的要求而設(shè)置的快速冷卻系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)自動(dòng)控制快速冷卻的目的。
　　蒸發(fā)鍍膜與手套箱組合，實(shí)現(xiàn)蒸鍍、封裝、等工藝全封閉制作，使整個(gè)薄膜生長(zhǎng)和器件制備過(guò)程高度集成在一個(gè)完整的可控環(huán)境氛圍的系統(tǒng)中，消除有機(jī)大面積電路制備過(guò)程中大氣環(huán)境中不穩(wěn)定因素影響，保障了高性能、大面積有機(jī)光電器件和電路的制備。
　　標(biāo)簽：真空鍍膜電源